ナノテスティング学会

The Institute of Nano Testing

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2017-11-24

電子線応用技術研究会:第11回研究会(EBAT・AM合同研究会)

日時
2017年11月24日(金)10:15-17:00
場所
金沢工業大学大学院 虎ノ門キャンパス1301室
東京都港区愛宕1-3-4 愛宕東洋ビル13階
http://www.kanazawa-it.ac.jp/tokyo/map.htm
参加費
無料
参加申し込み
11月15日(水) までに、EBAT・AM合同研究会 参加申し込み にてお申し込み下さい。
プログラム

表示項目: 和文題名、 和文著者、 和文所属、 英文題名、 英文著者、 英文所属 

第11回電子線応用技術研究会(EBAT)

挨拶
(1)
「電子ビームを用いた顕微イメージングとイオンセンシング」
居波 渉
静岡大学 工学部
10:15-11:00
(2)
「Development of a high efficient electron emitter for parallel electron beam system and Simulation analysis of a miniaturized electron optics」
小島 明
東京農工大学
11:00-11:45
(3)
「世界最速のMultibeam走査電子顕微鏡による脳組織の連続観察」
芝田晋介
慶応大学 医学部
11:45-12:30

第11回先端計測技術研究会(AM)

研究会趣旨説明及びメンバー紹介
13:45-14:00
(1)
「マルチビーム応用を目的としたマイクロカラムの開発及び超放射スミスパーセル実証実験に付随するデバイス開発状況」
根尾陽一郎
静岡大学 電子工学研究所
14:00-15:00
(2)
「新材料・新構造3D化デバイスにおけるナノスケール解析技術開発」
田中洋毅
東芝メモリ株式会社 メモリ技術研究所
15:00-15:45
《 休憩》
(3)
「グラフ構造を用いたリソグラフィホットスポット検出」
新田 泉
株式会社 富士通研究所
16:00~16:45
まとめ及び今後の進め方について自由討議
16:45-17:00
懇親会
(決定しました)
  • 開催日時:2017年11月24日(金) 17:15から2時間程度
  • 場所:CRAFT BEER MARKET 虎の門店
  • 住所:東京都港区西新橋1-23-3 S.A.グレイス1F(虎ノ門駅より徒歩2分)
  • 電話:03-6206-1603
  • 会費:4000円程度 (当日、申し受けます)
  • 参加申込:研究会参加申し込みの際に、参加の可否をご連絡ください
問い合わせ先
飯田(EIDEC)susumu.iida@eidec.co.jp TEL:090-6009-3659
研究会 役員
研究会委員長
中前幸治(大阪大学)
電子線応用技術研究会 副委員長
小瀬洋一(日立ハイテクノロジーズ)、須賀三雄(日本電子)
先端計測技術研究会 副委員長
山崎裕一郎(NGR)、小瀬洋一(日立ハイテクノロジーズ)