ナノテスティング学会

The Institute of Nano Testing

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2018-12-20

電子線応用技術研究会:第13回研究会(EBAT・AM合同研究会)

日時
2018年12月20日(木)13:00-17:30
場所
日本電子 大手町オフィスの大会議室18階(13階ではありません)
東京都千代田区大手町2-1-1 大手町野村ビル18階
案内図(PDF)
参加費
無料
参加申し込み
12月13日(木)までに、EBAT・AM合同研究会 参加申し込み にてお申し込み下さい。
資料配付
12月18日(火) までに、参加申し込みをされた皆様へ、講演資料等のダウンロード方法をお知らせ致します。
プログラム

表示項目: 和文題名、 和文著者、 和文所属、 英文題名、 英文著者、 英文所属 

第13回先端計測技術研究会(AM)

挨拶及びメンバー紹介
13:00-13:15
(1)
「Minimizing "Tone Reversal" during 19x nm Mask Inspection」
小寺 豊
凸版印刷
13:15-14:00
(2)
「次世代欠陥検査装置のための検査標準試料の開発~ゼロLER_LSパターン上に作り込んだ1nmプログラム欠陥付ウエハ等~」
飯田 晋
EIDEC
14:00-14:45
《 休憩》

第13回電子線応用技術研究会(EBAT)

(1)
「電子ビームリソグラフィにおけるレジスト表面帯電機構の分類」
中山田 憲昭
ニューフレアテクノロジー
15:00-15:45
(2)
「UVナノインプリント可能なEBレジストを用いた三次元微細構造の製作」
岡部 貴雄
東京理科大
15:45-16:30
(3)
「輪帯照明SEMによる分解能と焦点深度の両立」
木村 愛美
日立製作所
16:30-17:15
今後の展望等自由討論
17:15-17:25
懇親会
問い合わせ先
飯田 susumu.iida@eidec.co.jp TEL:090-6009-3659
研究会 役員
研究会委員長
中前幸治(大阪大学)
電子線応用技術研究会 副委員長
小瀬洋一(日立ハイテクノロジーズ)、須賀三雄(日本電子)、飯田晋(東芝メモリ)
先端計測技術研究会 副委員長
山崎裕一郎(NGR)、小瀬洋一(日立ハイテクノロジーズ) 、飯田晋(東芝メモリ)